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IoT/CPS【設計・製造技術】

プラズマプロセス技術の近未来
エレクトロニクス・製造領域 プラズマプロセス技術の近未来多様なプロセスに対応する高密度プラズマ源● 従来の放電特性・圧力・温度・面積限界を凌駕する新プラズマ生成技術● 低圧∼大気圧領域において、 高密度・低温・大面積プラズマプロセスが可能● 局所的パターニング、 大面積一括処理、 ロール・ツー・ロール方式へ適用可能研究内容応用研究先進プラズマプロセスグループの多様なプラズマ技術ᅛయඖ⣲䛾䜏䜢ཎᩱ䛸䛧䛯‽ᐃᖖ䝥䝷䝈䝬※䛾㛤Ⓨ㻌ప౵く䝥䝷䝈䝬Ṇ⾑⿦⨨䛾㛤Ⓨ㻌▷䝟䝹䝇䞉㧗䝟䝽䞊ᐦᗘ䛾ᑠᆺ㟁Ꮚ䝡䞊䝮※䛾㛤Ⓨ㻌H. Koguchi et al., Rev. Sci. Instrum. 83, 02A510 (2012).Purecarbon plasma‫؞‬फ़५॑৷ःङप‫ؚ‬৊ກฯಉधৈఢణਗ਼ৡ਺োपेॉଣਗ਼೐੅पਛ඘Voltage: 200 kVCurrent: 25 kAPulse width: 80 nsRepetition rate: 1 Hz‫؞‬૚বभୢ௜ਃஓੳ઒दਹ৷૭ચऩَ਍৸ਙधಎ઼ਙચभ੐ఏُधखथব੠ૠત॑ੁ৒ᩘ್䝅䝭䝳䝺䞊䝅䝵䞁䝁䞊䝗䛾㛤Ⓨ㻌‫؞‬३॔ॱ‫ش‬৷‫ؚ‬ਸੵ৷भৈ਴಑লৡ෤౦ঞ‫ش‬२‫ش‬भ୾৾ಞ৕ /L1E2 ৈ২৲S. Kato et al., Optical MaterialsExpress䠈6-2, pp.396-401 (2016).‫؞‬శ଍஄୾৾ੰෲ९ইॺ‫؞‬পਞಓউছ६ঐभખૢૌஙੑ઴ዟ⏣ຌ㻘㻌䝺䞊䝄䞊◊✲㻘㻌㼢㼛㼘㻚㻌㻟㻞㻌㻔㻠㻕㻘㻌㼜㼜㻚㻌㻞㻣㻝㻙㻞㻣㻢㻌㻔㻞㻜㻜㻠㻕㻚㻌● キ ー ワ ー ド:プラズマ、マイクロ波、機能性材料、炭素材料、窒化物● 連 携 先 業 種:製造業(電気機器)、製造業(化学)、製造業(金属製品)、製造業(非鉄金属)、製造業(医薬品)榊田創・金載浩・小口 治久・加藤電子光技術研究部門連絡先:エレクトロニクス・製造領域研究拠点:つくば進・清水 鉄司・池原譲