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IoT/CPS【設計・製造技術】
エレクトロニクス・製造領域 エレクトロニクスを革新する原子層材料層状カルコゲナイドの成膜技術とデバイス化技術● 量産適用可能な原子層カルコゲナイド薄膜のガスソース CVDと液相成膜技術● 原子層デバイスによる Si LSI 微細化極限打破と多機能化を追求● 電子・光デバイス、 各種センサ等をワンチップ三次元集積䝕䝞䜲䝇䞉㞟✚ᢏ⾡ከᶵ⬟ᦚ㍕୕ḟඖ㞟✚ᅇ㊰ᚑ᮶䛾䝅䝸䝁䞁䝧䞊䝇㞟✚ᅇ㊰䛾䜏䛷䛿ᐇ⌧ᅔ㞴䛺䚸㧗ᛶ⬟/పᾘ㈝㟁ຊ/ከᶵ⬟/㧗㞟✚ᅇ㊰䛾ᐇ⌧䜢┠ᣦ䛧䛶䛔䜎䛩䚹ᡂ⭷䞉ᮦᩱᢏ⾡WF 6MoCl5SnCl4ReagentsH2SMoS2 nanoinkH2etc.䝷䞁䝥ຍ⇕ᶵᵓH2┿✵ィ䝥䝷䝈䝬Ⓨ⏕ᶵᵓ┿✵ィ䜴䜵䝝ᇶᯈᦙ㏦ᶵᵓᇶᯈຍ⇕䝇䝔䞊䝆ᡂ⭷ᐊ‽ഛᐊప 䜺䝇䝋䞊䝇CVDᡂ⭷ẼHybridization䝘䝜䜲䞁䜽䛻䜘䜛ᾮ┦ᡂ⭷㔞⏘㐺⏝ྍ⬟䛺ᡂ⭷ᢏ⾡䛾㛤Ⓨ䜢⾜䛳䛶䛔䜎䛩䚹● キ ー ワ ー ド：原子層材料、層状物質、成膜技術、電子・光デバイス、センサ● 連 携 先 業 種：製造業（電気機器）、製造業（精密機器）、製造業（化学）入沢 寿史・岡田 直也・遠藤 和彦・安藤ナノエレクトロニクス研究部門連絡先：エレクトロニクス・製造領域研究拠点：つくば淳
